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本发明提供一种往复旋转升降的化学气相沉积设备，包括腔体、基座、固定支架、升降机构及旋转机构。本发明利用磁流体密封原理实现设备密封，并实现旋转升降功能为一体，可同时满足往复旋转、升降移动、晶圆加热等的协同工作的同时互不影响，且往复式旋转可避免...
该专利属于陛通半导体设备（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过陛通半导体设备（苏州）有限公司授权不得商用。

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