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本发明提供一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的导体化处理会导致有源层失去半导体性能或者TFT沟道长度在基板上分布均一性差的问题。本发明的薄膜晶体管的制备方法包括在导体化区域的邻接半导体区域的一侧形...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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