温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种硅片表面图形刻蚀设备，包括：操作面、刻蚀液控制组件，操作面上设置有用于安装硅片的凹槽；硅片阵列有若干分割区域，每个硅片根据光刻胶图案在对应的分割区域黏附有容纳结构；容纳结构由增强纤维构筑而成，并通过若干支撑纤维粘合，支撑纤维...
该专利属于上海集众慧智能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集众慧智能科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。