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本发明公开一种光刻机掩模台六自由度位移测量系统，包括：光栅安装板，固定在光刻机的掩模台上，第一平面光栅和第二平面光栅，相对固定在光栅安装板的两侧，第一平面光栅包括相互垂直的栅线，且栅线方向是在掩模台的平移平面的x轴和y轴方向上，第二平面光栅...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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