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本公开提供能够实现记录密度的提高的磁头及磁记录装置。根据实施方式,磁头包括第1、第2磁极和层叠体。层叠体包括第1~第3磁性层和第1~第4非磁性层。第1磁性层包括Fe、Co及Ni中的至少1个。第2磁性层包括Fe、Co及Ni中的至少1个。第3磁...该专利属于东芝电子元件及存储装置株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东芝电子元件及存储装置株式会社授权不得商用。
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本公开提供能够实现记录密度的提高的磁头及磁记录装置。根据实施方式,磁头包括第1、第2磁极和层叠体。层叠体包括第1~第3磁性层和第1~第4非磁性层。第1磁性层包括Fe、Co及Ni中的至少1个。第2磁性层包括Fe、Co及Ni中的至少1个。第3磁...