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本实用新型涉及原子层沉积技术领域，且公开了一种等离子体增强的原子层沉积设备，包括真空反应腔、反应气、惰性气体瓶、前驱物输运模块、加热模块、分子真空泵、真空泵和废气处理系统，所述真空反应腔的上端固定连通有等离子发生腔，所述等离子发生腔的上端固...
该专利属于南京港锐电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京港锐电子科技有限公司授权不得商用。

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