温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种外延设备的生长腔室，用于外延生长，包括：腔室本体，呈水平设置的圆柱状；承托组件，用于承托并驱动衬底旋转使衬底进行外延生长；所述腔室本体内设有两个以上的反应腔，两个以上的反应腔为竖向排列，每个所述反应腔内均设有所述承托组件；该...
该专利属于季华恒一（佛山）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过季华恒一（佛山）半导体科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。