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本发明涉及一种原子层沉积装置与方法。原子层沉积装置包括：承载组件，承载组件包括用于容纳待包覆粉末的反应腔体；第一喷头，第一喷头位于反应腔体的下方，第一喷头包括多个沿第一方向排布的下喷入通道，以及设置于相邻的下喷入通道之间的下排出通道，下喷入...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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