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超结MOSFET功率器件的版图结构制造技术
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文档序号:31114897
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本实用新型公开了一种超结MOSFET功率器件的版图结构,包括MOSFET版图结构,所述MOSFET版图结构主要包括有源区及设置在有源区相邻两侧的终端结构,所述终端结构由若干终端小模块组合而成,所述终端小模块包括横向或纵向布置的第一模块和第二...
该专利属于上海道之科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海道之科技有限公司授权不得商用。
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