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磁阻效应磁头及其制造方法技术
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文档序号:3108927
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一种磁阻效应磁头,其特征在于,具有:形成于基片上的下部磁屏蔽层,在上述下部磁屏蔽层上形成的磁畴控制底层、具有形成在上述磁畴控制底层上的底层、自由层、非磁性层、固定层及固定上述固定层的磁化方向的反强磁性层的多层膜,形成于上述磁畴控制底层上、与...
该专利属于株式会社日立制作所所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社日立制作所授权不得商用。
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