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本实用新型公开了一种基片台装置，包括真空腔室、设于真空腔室内的基片台、以及穿设于真空腔室上并与基片台相连的转轴，所述转轴与所述基片台相连的一端套设有用于对基片台加热的加热盘，所述基片台内设有冷却液流道，所述转轴内设有与所述冷却液流道连通的冷...
该专利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第四十八研究所授权不得商用。

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