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本实用新型提供一种应用于半导体湿法刻蚀设备中的托盘密封件，包括托盘基板和托盘密封板；所述托盘基板与所述托盘密封板连接，所述托盘基板采用聚醚醚酮件，所述托盘密封板采用氟橡胶件；所述托盘密封板包括至少一个托点；通过采用利用耐腐性性能和无析出性能...
该专利属于上海嘉诺密封技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海嘉诺密封技术有限公司授权不得商用。

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