下载一种用于提高基片镀膜均匀性的修正装置的技术资料

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本实用新型提供了一种用于提高基片镀膜均匀性的修正装置,该修正装置包括支撑板和可拆卸安装在支撑板上的修正板,具有结构简单、易于拆卸、便于调整和维护的优点,且调整和维护难度不随基片尺寸的增加而提高;同时,构成修正板的各个上修正块和各个下修正块均...
该专利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国电子科技集团公司第四十八研究所授权不得商用。

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