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控制工艺腔室清洁气体用量的方法及工艺处理系统技术方案
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下载控制工艺腔室清洁气体用量的方法及工艺处理系统的技术资料
文档序号:31022881
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公开控制工艺腔室清洁气体用量的方法及工艺处理系统。控制工艺腔室的清洁气体用量的方法包含:供应清洁气体至工艺腔室,以清洁工艺腔室;于清洁期间,利用摄像装置获取工艺腔室的影像;利用影像处理装置识别影像,以判断工艺腔室的清洁是否完成;以及当判断工...
该专利属于友达光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。
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