下载半导体结构及半导体结构的形成方法的技术资料

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一种半导体结构及半导体结构的形成方法,结构包括:衬底:位于衬底上的若干鳍部结构,若干所述鳍部结构沿平行于衬底表面方向平行排列;位于鳍部结构上的第一保护层;位于第一保护层表面的第二保护层。所述半导体结构性能得到了提升。到了提升。到了提升。该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。

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