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本发明公开了一种用于LCD和AMOLED干刻下部电极的再生工艺，包括以下步骤：S11，将需要再生的电极从干刻设备中拆卸下来；S12，去除电极表面原有陶瓷涂层的表层部分；S13，用遮蔽材料对电极背面和侧面进行遮蔽；S14，对电极表面进行喷砂；...
该专利属于苏州众芯联电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州众芯联电子材料有限公司授权不得商用。

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