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本实用新型公开了一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，涉及真空镀膜技术领域。该磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，包括工作台，所述工作台的内部设置有检正机构，检正机构的外侧设置有翻面机构，工作台的顶部固定安装有两组识别光栅。该磁控溅射...
该专利属于四川华岩机械设备制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川华岩机械设备制造有限公司授权不得商用。

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