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本发明涉及防辐射领域，公开了一种等离子体刻蚀机的下电极屏蔽装置，该屏蔽装置包括由防辐射材料制成的隔离组合块、底座和顶部盖板；所述底座固定在所述隔离组合块的底部，所述顶部盖板盖合于所述隔离组合块的顶部开口端，并通过伸缩杆连接所述底座和所述顶部...
该专利属于绿展控股（深圳）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过绿展控股（深圳）有限公司授权不得商用。

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