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半导体存储器制造技术
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文档序号:3087726
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涉及使用用铁电体的半导体存储器,特别是可以得到不存在由于极化反转疲劳引起速度降低并且可以进行和DRAM进行相同的处理的非易失性存储器。在具有多个至少由1个晶体管和1个铁电体电容器构成的存储单元的存储器中,通常,作为易失性存储器即DRAM进行...
该专利属于株式会社日立制作所所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社日立制作所授权不得商用。
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