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分子光电子存储器制造技术
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文档序号:3084883
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一种用于采用光学状态变化的有机聚合物膜(502-514)作为由该方法制造的光电子高密度存储器和高密度光电子存储器中的信息存储层(814)。在一些实施例中,可以制造光学状态变化有机聚合物膜以展示出通过施加电场可以被局部、稳定并可逆地诱发的展示...
该专利属于惠普开发有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过惠普开发有限公司授权不得商用。
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