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本实用新型公开了一种溅镀沉积的反应腔体，包括有一腔体，及设于所述腔体内的护罩、托盘、夹具环和靶材固定装置，所述护罩底部设有一护罩环，该护罩环内侧区域中空，且护罩环表面设有多个沟槽；所述夹具环位于护罩环下方，所述夹具环用于放置一晶圆，所述托盘...
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