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本实用新型是一种原子层沉积装置，包括腔体、前驱物进气口、加热台、载盘、中空部件与挡件。当加热台与载盘受到升降装置驱动并靠近中空部件，载盘与挡件将围绕出反应空间，并使制程流体(例如，前驱物或涤洗气体)的流场被稳定地调控，进而使基材受前驱物均匀...
该专利属于鑫天虹(厦门)科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鑫天虹(厦门)科技有限公司授权不得商用。

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