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本发明公开了一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法，属于涂层制备技术领域，所述软磁非晶涂层由Fe、Co、N i、Ho、Si、B、C、Cr等8种元素组成，制备步骤包括：配料，按照涂层的各组分重量百分比配制原料；甩带，利用真空甩带机将上述原料制作成...
该专利属于中国电子科技集团公司第九研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第九研究所授权不得商用。

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