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用于磁光记录的氧化锌或氧化铟基层的铂或钯/钴多层薄膜制造技术
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下载用于磁光记录的氧化锌或氧化铟基层的铂或钯/钴多层薄膜的技术资料
文档序号:3073921
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本发明提供了一种磁光记录介质,包括有基底;溅射在基底上的氧化锌或氧化铟基层,以及溅射在氧化锌或氧化铟基层上的多层记录薄膜。其中氧化锌或氧化铟基层,是由200埃左右到4500埃左右厚(20毫微米左右到450毫微米左右),最好是由200埃左右到...
该专利属于纳幕尔杜邦公司所有,仅供学习研究参考,未经过纳幕尔杜邦公司授权不得商用。
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