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本实用新型公开了一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，其包括：设备本体，所述设备本体上设有支架，所述支架上安装有水平横梁；工作台，经升降单元设置在所述设备本体的上方，所述工作台上能够固定放置研磨头，所述研磨头上具有与内部腔体连通的连接孔；...
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