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本实用新型涉及晶片加工技术领域,公开一种防液体溅射的晶片加工台,包括依次布置的清洗区、甩片区和检验区,各区域具有底板,相邻区域之间通过隔板隔开,清洗区和甩片区之间还设有防止液体飞溅至甩片区和检验区的挡板。挡板工作过程中充当清洗区和甩片区之间...该专利属于广东先导微电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广东先导微电子科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型涉及晶片加工技术领域,公开一种防液体溅射的晶片加工台,包括依次布置的清洗区、甩片区和检验区,各区域具有底板,相邻区域之间通过隔板隔开,清洗区和甩片区之间还设有防止液体飞溅至甩片区和检验区的挡板。挡板工作过程中充当清洗区和甩片区之间...