下载制造磁致电阻磁头的方法的技术资料

文档序号:3072083

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明的制造磁阻头的方法包括在构成磁阻器件的多层薄膜上形成有机薄膜、在有机薄膜上形成由抗蚀剂或无机薄膜组成的上面的薄膜、制作有机薄膜和上面的薄膜的图形,使有机薄膜图形的边缘从上面的薄膜图形的边缘向内凹入,从而使在上面的薄膜和多层薄膜上形成的...
该专利属于富士通株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。