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本实用新型实施例公开了一种转移装置、转移系统,转移装置包括转移基板、激发部和柔性膜,激发部位于转移基板和柔性膜之间,激发部用于在激发源的激发下产生气体,以产生至少在转移基板厚度方向上的推力,使得柔性膜在受到推力的位置发生形变,使得待转移芯片...该专利属于南昌广恒电子中心(有限合伙)所有,仅供学习研究参考,未经过南昌广恒电子中心(有限合伙)授权不得商用。
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本实用新型实施例公开了一种转移装置、转移系统,转移装置包括转移基板、激发部和柔性膜,激发部位于转移基板和柔性膜之间,激发部用于在激发源的激发下产生气体,以产生至少在转移基板厚度方向上的推力,使得柔性膜在受到推力的位置发生形变,使得待转移芯片...