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在精确测量电阻的磁头制造方法中，在测量过程监控元件的电阻值的同时加工处理磁头。在晶片上形成磁头元件和监控元件后，监控元件的电阻值与加工过程以模拟的方式一致地变化。在测量监控元件的电阻值的同时，把磁头加工到预定的高度。在形成过程中，事先决定磁...
该专利属于富士通株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士通株式会社授权不得商用。

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