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曝光用掩模以及采用该曝光用掩模的曝光方法技术
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文档序号:3070169
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在面积很大的透光部5A内设置校准键(标记)6。通过这种方法,为了对准位置,即使将曝光用掩模4上下、左右移动,滑块条1的薄膜元件3均能恰当地进入上述透光部5A内,可以容易地将曝光用掩模4的透光部5A与滑块条1的薄膜元件3的位置对准。...
该专利属于阿尔卑斯电气株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过阿尔卑斯电气株式会社授权不得商用。
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