曝光用掩模以及采用该曝光用掩模的曝光方法技术

在面积很大的透光部５Ａ内设置校准键（标记）６。通过这种方法，为了对准位置，即使将曝光用掩模４上下、左右移动，滑块条１的薄膜元件３均能恰当地进入上述透光部５Ａ内，可以容易地将曝光用掩模４的透光部５Ａ与滑块条１的薄膜元件３的位置对准。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在例如与滑块条等的基板的记录介质相对的面上形成的抗蚀剂层表面上，对ABS面的蚀刻图形进行曝光时所用的曝光用掩模，特别是涉及能切实地将上述滑块条与曝光用掩模位置对准的曝光用掩模，以及采用该曝光用掩模的曝光方法。装载于硬盘等装置的磁头装置，是在板簧材料形成的万向架的前端装上滑块，再在该滑块的端部形成具有记录与再现功能的薄膜元件而制成的。在上述滑块上与记录介质相对的面上，形成所谓悬浮面的ABS面，上述滑块利用记录介质表面流动的气流悬浮于记录介质之上。上述滑块在悬浮于记录介质的状态下，通过上述滑块上所设的薄膜元件，对记录介质进行记录或再现。在制造所设滑块时，首先将陶瓷材料做成圆形，在上述陶瓷材料上并列地形成若干个薄膜元件，再在上述陶瓷材料上并列地喷涂上若干薄膜元件。然后将上述陶瓷材料切割成薄片状，使上述陶瓷材料成为若干细长形的滑块条。接着，如图5所示，使与记录介质相对的面21向上，再将若干条滑块条20并列地排在一起，用夹具等将上述滑块条20予以固定。如图5所示，在滑块条20的相对面21上有若干个薄膜元件22。在上述相对面21上，形成感光性抗蚀剂层(图中未表示出)。接下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光用掩模，它是用来对端面上有元件的基板表面形成的抗蚀剂层进行曝光，使该抗蚀剂层留下ＡＢＳ面的形状的曝光用掩模，其特征是，在上述曝光用的透光部内，设置以上述元件为基准来确定基板与透光部相对位置的标记。

【技术特征摘要】
JP 1998-4-23 113511/981．一种曝光用掩模，它是用来对端面上有元件的基板表面形成的抗蚀剂层进行曝光，使该抗蚀剂层留下ABS面的形状的曝光用掩模，其特征是，在上述曝光用的透光部内，设置以上述元件为基准来确定基板与透光部相对位置的标记。2．根据权利要求1所述的曝光用掩模，其特征是，感光性抗蚀剂层是负片型的，上述标记在ABS面形状的透光部内。3．根据权利要求1所述的曝光用掩模，其特征是，感光性抗蚀剂层是正片型的，上述标记在ABS面形状以外的透光部内。4．根据权利要求1所述的曝光用掩模，其特征是，上述标记可以设置于离上述元件相对于曝光用掩模所应处的位置一定距离的位置上。5．根据权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤俊彦，岩崎纯，池上正克，小林政美，横山雅春，
申请(专利权)人：阿尔卑斯电气株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]