温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种光刻胶残留物清洗剂生产用混料装置，包括混料桶、支撑架和上盖，所述混料桶外侧的上端设有进料口，并且底部设有出料口，所述混料装置还包括：至少两个第一板体；至少两个第二板体；驱动组件。本实用新型中，第一板体上设置有通孔和螺旋桨...
该专利属于三达奥克化学股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三达奥克化学股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。