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光记录介质制造技术
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文档序号:3063532
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一种光记录介质,包括: 透明基片; 位于透明基片上方的下保护层; 含相变材料的记录层,它位于下保护层上方; 位于记录层上方的上保护层;以及 位于记录层与下保护层之间和记录层与上保护层之间这两种位置中的至少一种位...
该专利属于株式会社理光所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社理光授权不得商用。
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