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本实用新型公开了晶元加工技术领域的一种具有保护晶元功能的薄膜沉积设备，包括反应室，所述反应室顶端设置有出气口，所述反应室底端设置有进气口，所述反应室的顶端内壁左右对称设置有两组支撑杆，且支撑杆与反应室的内壁固定连接，两组所述支撑杆的底端面均...
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