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本实用新型涉及一种机械化学的研磨工装，包括真空吸盘、环形限位结构和研磨垫；环形限位结构设置于所述真空吸盘上，以中心线为基准；环形限位结构的外径等于真空吸盘的外径；研磨垫的设置于环形限位结构内；研磨垫的直径等于环形限位结构的内径；研磨垫对应的...
该专利属于上海江丰平芯电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海江丰平芯电子科技有限公司授权不得商用。

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