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射线检查系统及散射校正方法技术方案
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文档序号:30491446
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本公开涉及一种射线检查系统及散射校正方法。射线检查系统包括:射线源(1),被配置为产生射线束流(10);第一探测器阵列(2),至少部分位于所述射线束流(10)的覆盖范围内;第二探测器阵列(3),与所述第一探测器阵列(2)位于所述射线检查系统...
该专利属于同方威视技术股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过同方威视技术股份有限公司授权不得商用。
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