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本实用新型涉及一种适用于高速流场环境下的化学物质掺混装置，所述装置为水冷中空夹层结构，所述夹层结构中接触流场的表面刻有蜂窝状的倾斜小孔，且倾斜小孔和夹层结构中接触流场的表面呈一定角度，喷洒出射的气体亲电子物质与背景流场方向存在较大的分速度，...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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