一种适用于高速流场环境下的化学物质掺混装置制造方法及图纸

技术编号:30481635 阅读:27 留言:0更新日期:2021-10-24 20:00
本实用新型专利技术涉及一种适用于高速流场环境下的化学物质掺混装置,所述装置为水冷中空夹层结构,所述夹层结构中接触流场的表面刻有蜂窝状的倾斜小孔,且倾斜小孔和夹层结构中接触流场的表面呈一定角度,喷洒出射的气体亲电子物质与背景流场方向存在较大的分速度,从而实现最大效果的掺混和吸附反应。现最大效果的掺混和吸附反应。现最大效果的掺混和吸附反应。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于高速流场环境下的化学物质掺混装置


[0001]本技术涉及一种适用于高速流场环境下的化学物质掺混装置,是应用于高温、高碰撞、高速流场等极端复杂等离子体环境下,释放吸附性化学物质与等离子体掺杂混合的一种技术方案,包括气化物质喷射掺混装置以及高速流场等离子体环境下的释放方法,可以用于高超声速风洞环境下的气化物质掺混,高温高密度托克马克等离子体边界区域掺混,以及未来高超声速飞行器表面再入表面等离子体区域化学物质掺混释放等。

技术介绍

[0002]当卫星、航天飞船、宇宙飞船等航天飞行器以极高的速度再入空间大气层时,会与稠密的高层大气发生摩擦和强大的挤压,飞行器表面的温度会激增至3000K以上,进而导致大气分子的电离,被电离的大气会在目标表面及其周围形成包围在飞行器表面有一定厚度的致密等离子体。形成的致密等离子体会直接影响飞行器的热传导、气动过程和无线电通讯等特性,鞘套的形成会对目标信号的有效传输产生严重的威胁。由于电磁屏蔽的作用,地面与飞行器之间的无线电通信会出现失真或中断,从而导致传输数据的丢失而危及飞行器的安全。因此,该再入致密等离子体环境本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于高速流场环境下的化学物质掺混装置,其特征在于:所述装置为水冷中空夹层结构,所述夹层结构中接触流场的表面刻有蜂窝状的倾斜小孔,且倾斜小孔和夹层结构中接触流场的表面呈一定角度,喷洒出射的气体亲电子物质与背景流场方向存在分速度,从而实现最大效果的掺混和吸附反应。2.根据权利要求1所述的适用于高速流场环境下的化学物质掺混装置,其特征在于:所述倾斜小孔和夹层结构中接触流场的表面呈30度夹角,且与流场方向一致。3.根据权利要求1所述的适用于高速流场环境下的化学物质掺混装置,其特征在于:所述倾斜小孔的直径...

【专利技术属性】
技术研发人员:张逍刘宇曹金祥雷久侯刘祥群余鹏程
申请(专利权)人:中国科学技术大学
类型:新型
国别省市:

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