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本发明涉及一种干涉滤光膜及其制备方法和发光装置，包括如下步骤：在基材上依次形成层叠且交替的高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜；其中，基材上的最内层薄膜为第一层高折射率材料薄膜，第一层高折射率材料薄膜采用热原子层渗透工艺沉积形成，第一层高折射...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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