干涉滤光膜及其制备方法和发光装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种干涉滤光膜及其制备方法和发光装置，包括如下步骤：在基材上依次形成层叠且交替的高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜；其中，基材上的最内层薄膜为第一层高折射率材料薄膜，第一层高折射率材料薄膜采用热原子层渗透工艺沉积形成，第一层高折射率材料薄膜的沉积步骤包括依次进行的使前驱体渗透至基材的前驱体渗透阶段及沉积形成第一层高折射率材料薄膜的原子层沉积阶段；除第一层薄膜之外，其他各薄膜的沉积工艺独立地选自原子层沉积工艺或PEALD工艺；各高折射率材料薄膜和各低折射率材料薄膜的沉积温度均不大于110℃。本发明专利技术制备方法能够有效地避免制膜工艺导致发光器件失效的问题，且制得的干涉滤光膜具有较好的滤波和增透性能。膜具有较好的滤波和增透性能。膜具有较好的滤波和增透性能。

【技术实现步骤摘要】
干涉滤光膜及其制备方法和发光装置


[0001]本专利技术涉及发光器件
，特别是涉及一种干涉滤光膜及其制备方法和发光装置。

技术介绍

[0002]有机发光器件等发光器件由于同时具备自发光、高发光效率、宽视角、低功耗、可弯折等优异特性，在显示领域的应用具有得天独厚的优势。然而发光器件的内部结构含有对水氧敏感材料进而极易被空气中水氧侵蚀，故而发光器件容易受到水氧侵蚀进而导致失效。因此，必须对发光器件进行有效封装，延长其发光寿命。由菲涅尔定理可知，光在封装结构的分界面上都会发生反射、折射，这不仅影响发光器件的通光能量，且反射光会在器件内形成杂散光，影响发光器件的发光质量。因此，为了改善发光器件的发光质量，可在发光器件的表面镀上一定厚度的多层介质膜，利用光的干涉效应，根据实际的应用需求，对特定波段透光率进行调控，实现其光学滤波及增透功能，这种多层介质膜也称为干涉滤光膜。
[0003]目前干涉滤光膜中薄膜的制备方法主要是物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)两种形式。而旋涂以及蒸镀或溅射等物理方法的制膜工艺，由于薄膜附着力小或缺乏表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种干涉滤光膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：在基材上依次形成层叠且交替的高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜；其中，所述基材上的最内层薄膜为第一层高折射率材料薄膜，所述第一层高折射率材料薄膜采用热原子层渗透工艺沉积形成，所述第一层高折射率材料薄膜的沉积步骤包括依次进行的使前驱体渗透至所述基材的前驱体渗透阶段及沉积形成所述第一层高折射率材料薄膜的原子层沉积阶段，所述前驱体渗透阶段的时间不小于10s；除所述第一层高折射率材料薄膜之外，其他各所述高折射率材料薄膜和各所述低折射率材料薄膜的沉积工艺独立地选自原子层沉积工艺或PEALD工艺；各所述高折射率材料薄膜和各所述低折射率材料薄膜的沉积温度均不大于110℃。2.如权利要求1所述的干涉滤光膜的制备方法，其特征在于，所述高折射率材料薄膜的材质为TiO2、HfO2、ZrO2、ZnO、TiS2、HfS2、ZrS2、ZnS、TiSe2、HfSe2、ZrSe2及ZnSe中的至少一种；所述低折射率材料薄膜的材质为Al2O3、SiO2及AlF3中的至少一种。3.如权利要求1所述的干涉滤光膜的制备方法，其特征在于，除所述第一层高折射率材料薄膜之外，其他各所述高折射率材料薄膜采用原子层沉积工艺形成，各所述低折射率材料薄膜的沉积工艺独立地选自原子层沉积工艺或PEALD工艺。4.如权利要求1所述的干涉滤光膜的制备方法，其特征在于，各所述高折射率材料薄膜和各所述低折射率材料薄膜的沉积温度均为60℃～100℃。5.如权利要求1至4任一项所述的干涉滤光膜的制备方法，其特征在于，所述第一层高折射率材料薄膜的沉积条件为：以惰性气体为载气，所述载气的气流量为50sccm～100sccm，单次脉冲时间为0.5s～5.0s，脉冲压强为10Pa～50Pa；在通入...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈蓉，张英豪，单斌，杨帆，李云，林源，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：