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离型膜和其制造方法技术
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文档序号:30427000
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公开了一种离型膜及其制造方法。所述离型膜包括基材和位于所述基材的至少一表面上的离型层,其中,所述基材的表面的中心线平均粗糙度(Ra)等于或大于10nm且小于30nm,所述离型层的表面的中心线平均粗糙度(Ra)小于15nm,且其最大突起高度(...
该专利属于东丽尖端素材株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东丽尖端素材株式会社授权不得商用。
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