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一种半导体结构的形成方法，所述半导体结构的形成方法包括：提供基底；在所述基底上形成伪栅；在所述伪栅两侧的基底中形成源漏掺杂区；在所述伪栅两侧形成覆盖所述源漏掺杂区的层间介质层；在形成所述层间介质层后，对所述伪栅进行表面处理，适于减小所述伪栅...
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