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本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其工艺腔室。该工艺腔室包括：腔室本体、承载装置及匀流组件；腔室本体的顶部设置有进气结构，腔室本体的底壁贯穿多个抽气口，用于与抽气管路连接，以排出腔室本体内的气体；承载装置包括承载座及支撑柱，承载座通过支...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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