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本实用新型公开了一种用于曝光工序的基板，所述用于曝光工序的基板在曝光后还进行钻孔，其包括呈四方形的主体，所述主体上设有多个设置于所述主体的边缘区的钻孔区和多个靶点，所述钻孔区由设置在所述主体上的标记线框围构而成，任一所述靶点设置在任一所述钻...
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