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半导体结构从底部至顶部或从顶部至底部包括栅电极、铁电介电层、富金属的金属氧化物层、介电金属氮化物层和金属氧化物半导体层。可以通过在金属氧化物半导体层上形成源极区域和漏极区域来提供铁电场效应晶体管。富金属的金属氧化物层和介电金属氮化物层使铁电...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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半导体结构从底部至顶部或从顶部至底部包括栅电极、铁电介电层、富金属的金属氧化物层、介电金属氮化物层和金属氧化物半导体层。可以通过在金属氧化物半导体层上形成源极区域和漏极区域来提供铁电场效应晶体管。富金属的金属氧化物层和介电金属氮化物层使铁电...