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本发明公开了一种单抗光电保护膜制备方法，包括步骤：S1、放卷；S2、涂胶；S3、烘干；S4、收卷；在所述步骤S2中，通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面，由搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌，同时由抽气装置吸收从胶液中溢出的气体。本发明的单抗...
该专利属于芜湖夏鑫新型材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芜湖夏鑫新型材料科技有限公司授权不得商用。

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