单抗光电保护膜制备方法及单抗光电保护膜技术

本发明专利技术公开了一种单抗光电保护膜制备方法，包括步骤：S1、放卷；S2、涂胶；S3、烘干；S4、收卷；在所述步骤S2中，通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面，由搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌，同时由抽气装置吸收从胶液中溢出的气体。本发明专利技术的单抗光电保护膜制备方法，通过设置搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌，避免胶液长期静止不动而发生凝固，提高双抗光电保护膜的良率，同时设置的抽气装置能够及时将有毒气体抽走，避免有毒气体散发到空气中，改善工作环境。本发明专利技术还公开了一种单抗光电保护膜。本发明专利技术还公开了一种单抗光电保护膜。本发明专利技术还公开了一种单抗光电保护膜。

【技术实现步骤摘要】
单抗光电保护膜制备方法及单抗光电保护膜


[0001]本专利技术属于保护膜生产
，具体地说，本专利技术涉及一种单抗光电保护膜制备方法及单抗光电保护膜。

技术介绍

[0002]玻璃片材用单抗(单面抗静电)光电保护膜的表面需要涂胶处理，在单抗光电保护膜表面形成保护层。目前的单抗光电保护膜涂胶工艺为将放卷后的保护膜通过涂胶辊将胶槽中的胶液均匀的涂覆在基膜表面，由于胶槽中的胶液流动性相对较差，胶液若长期静止不动会发生凝固，导致基膜表面涂胶易出现不均匀的情况，会降低双抗光电保护膜的良率。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提供一种单抗光电保护膜制备方法，目的是提高单抗光电保护膜的良率。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为：单抗光电保护膜制备方法，包括步骤：
[0005]S1、放卷；
[0006]S2、涂胶；
[0007]S3、烘干；
[0008]S4、收卷；
[0009]在所述步骤S2中，通过涂胶辊将胶槽中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.单抗光电保护膜制备方法，包括步骤：S1、放卷；S2、涂胶；S3、烘干；S4、收卷；其特征在于，在所述步骤S2中，通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面，由搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌，同时由抽气装置吸收从胶液中溢出的气体。2.根据权利要求1所述的单抗光电保护膜制备方法，其特征在于，所述搅拌装置包括驱动电机、竖直设置的搅拌轴、设置于搅拌轴上的搅拌叶片以及与驱动电机和搅拌轴连接的动力传递机构，搅拌叶片位于所述胶槽中。3.根据权利要求2所述的单抗光电保护膜制备方法，其特征在于，所述搅拌轴的高度可调节，搅拌轴与升降机构连接。4.根据权利要求3所述的单抗光电保护膜制备方法，其特征在于，所述升降机构包括托座和与托座连接且用于控制托座进行升降的升降执行器，所述搅拌轴的下端设置于托座上。5.根据权利要求4所述的单抗光电保护膜制备方法，其特征在于，所述动力传递机构包括套设于所述搅拌轴上的轴套以...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘冬，严卫国，
申请(专利权)人：芜湖夏鑫新型材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：