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本发明适用于光学基底清洗领域，公开了清洗工装，包括框体和设置在框体上的限位结构，框体包括底部支撑结构、顶部支撑结构、以及连接顶部支撑结构和底部支撑结构的连接杆，限位结构包括底板和与底板垂直连接的背板，底板安装在底部支撑结构上，背板上部抵靠在...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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