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一种等离子体处理装置,包括:反应腔主体,所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板,所述等离子体通道板包括:等离子体通道板主体;环绕所述等离子体通道板主体的侧部的通道板定位件;位于所述通道板定位件和所述反应腔主体的顶壁之间的导电导热环;位于所...该专利属于上海谙邦半导体设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海谙邦半导体设备有限公司授权不得商用。
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一种等离子体处理装置,包括:反应腔主体,所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板,所述等离子体通道板包括:等离子体通道板主体;环绕所述等离子体通道板主体的侧部的通道板定位件;位于所述通道板定位件和所述反应腔主体的顶壁之间的导电导热环;位于所...