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本发明描述多种训练方法和一种掩模校正方法。所述方法之一用于训练机器学习模型，该机器学习模型被配置成预测用于掩模的优化后邻近效应校正(OPC)图像。所述方法涉及：获得(i)与待印制于衬底上的设计布局相关联的优化前邻近效应校正图像、(ii)所述...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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